石墨烯纳米带复合结构及其制备方法
公开
摘要

一种石墨烯纳米带复合结构的制备方法,包括以下步骤:提供一衬底,该衬底包括多个间隔设置的凸起;在一生长基底上生长石墨烯膜;将一粘胶层设置在所述石墨烯膜远离生长基底的表面;去除所述生长基底,并利用水或有机溶剂清洗;将所述衬底与所述石墨烯膜、所述粘胶层复合,并干燥,得到一第一复合结构,该第一复合结构包括所述衬底、所述石墨烯膜和所述粘胶层,所述石墨烯膜位于所述粘胶层与所述衬底之间;去除所述粘胶层,得到一第二复合结构,该第二复合结构包括所述衬底和所述石墨烯膜,所述石墨烯膜位于所述衬底上,并且所述石墨烯膜在每一凸起附近形成一褶皱;从所述石墨烯膜远离衬底的表面进行刻蚀,将除褶皱以外的石墨烯膜去除。

基本信息
专利标题 :
石墨烯纳米带复合结构及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114604865A
申请号 :
CN202011450273.8
公开(公告)日 :
2022-06-10
申请日 :
2020-12-09
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
张天夫张立辉金元浩李群庆范守善
申请人 :
清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
申请人地址 :
北京市海淀区清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202011450273.8
主分类号 :
C01B32/194
IPC分类号 :
C01B32/194  C01B32/186  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素;其化合物
C01B32/00
碳;其化合物
C01B32/15
纳米级碳材料
C01B32/182
石墨烯
C01B32/194
后处理
法律状态
2022-06-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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