一种含有梯度结构的纳米复合涂层及其制备方法
公开
摘要
本发明涉及加工制造技术领域，尤其涉及一种含有梯度结构的纳米复合涂层及其制备方法，含有梯度结构的纳米复合涂层包括TMB2层涂层和TMBN梯度结构层涂层，所述TMB2涂层和所述TMBN梯度结构涂层均沉积在基体上，所述TMB2涂层和所述TMBN梯度结构涂层中的TM元素均为过渡金属元素，各层TMBN层由TM元素、B元素和N元素组成，TMBN梯度结构涂层中的各层TMBN层具有不同(TM+B)：N的原子比，该原子比随TMBN层的层叠方向递增或递减，其制备方法通过磁控溅射在基体上沉积出TMB2涂层与TMBN涂层，具有环保的优点。
基本信息
专利标题 ：
一种含有梯度结构的纳米复合涂层及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114481066A
申请号 ：
CN202111679678.3
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2021-12-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王成勇林海生
申请人 ：
广东工业大学
申请人地址 ：
广东省广州市东风东路729号
代理机构 ：
广州市时代知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
梁美玲
优先权 ：
CN202111679678.3
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/06 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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