超硬纳米复合涂层的制备PVD设备
专利申请权、专利权的转移
摘要

本实用新型提供超硬纳米复合涂层的制备PVD设备。本实用新型提供了超硬纳米复合涂层的制备PVD设备,其通过总供电线路供电,复合PVD设备包括:一个壳体、一个工件架、一个离子源、一个分子泵、一个阴极电弧金属镀膜模块、一个阴极磁控溅射金属镀膜模块、一个阴极电弧石墨镀膜模块、一个阴极磁控溅射石墨镀膜模块。该PVD设备在一个真空镀膜室内集成多个磁控阴极、电弧阴极以及离子源,实现多种镀膜工艺集成,从而可以开发多种膜层复合的新型涂层材料。

基本信息
专利标题 :
超硬纳米复合涂层的制备PVD设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021642191.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-08
授权号 :
CN213266684U
授权日 :
2021-05-25
发明人 :
赵俊亮李恒彭占杰
申请人 :
南京纳弧新材料科技有限公司
申请人地址 :
江苏省南京市雨花台区凤华路18号2幢B105室
代理机构 :
北京盛凡智荣知识产权代理有限公司
代理人 :
曹利华
优先权 :
CN202021642191.9
主分类号 :
C23C14/35
IPC分类号 :
C23C14/35  C23C14/32  C23C14/16  C23C14/02  C23C14/06  C23C14/50  C23C14/54  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的,例如磁控溅射
法律状态
2022-04-29 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : C23C 14/35
登记生效日 : 20220418
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 南京纳弧新材料科技有限公司
变更后权利人 : 纳弧真空装备(浙江)有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 210012 江苏省南京市雨花台区凤华路18号2幢B105室
变更后权利人 : 313117 浙江省湖州市长兴县煤山镇国家级开发绿色制造产业园西部分区(中南高科·长兴绿色智造产业园12栋01)
2021-05-25 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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