测量设备
公开
摘要
本发明公开一种测量设备，包括基座以及定位装置。基座包括测量中心轴。定位装置包括至少二定位元件，各定位元件设置于基座上且可移动地定位。各定位元件能相对于测量中心轴移动，使各定位元件分别与测量中心轴之间的距离相同。各定位元件用以供工件抵靠，以将工件定位于测量中心轴。
基本信息
专利标题 ：
测量设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114623742A
申请号 ：
CN202011516015.5
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2020-12-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
陈易呈许益嘉林家庆赵致杰
申请人 ：
财团法人工业技术研究院
申请人地址 ：
中国台湾新竹县
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
陈小雯
优先权 ：
CN202011516015.5
主分类号 ：
G01B5/00
IPC分类号 ：
G01B5/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B5/00
以采用机械方法为特征的计量设备
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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