半导体制造系统的动态调度方法
授权
摘要

本发明涉及一种半导体制造系统调度的自组织调度方法包括S1:设置自组织单元的角色和参数,定义生产环境中的关键节点;S2:构建自组织单元之间的协商机制,设计决策和调度主体ESOU单元;S3:根据ESOU单元的决策指令,设计LSOU分配调度单元,负责区分单批处理和多批处理;S4:设计基于自组织单元的调度机制,来实现动态的半导体调度。本发明包括三个方面:自组织单元的角色定义,自组织单元之间的协商机制及其决策方法。基于真实行业基准生产线的模拟表明,该方法在工作移动,吞吐量和按时交付率方面提升了4.9%,9.06%和20.23%。

基本信息
专利标题 :
半导体制造系统的动态调度方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112650179A
申请号 :
CN202011537045.4
公开(公告)日 :
2021-04-13
申请日 :
2020-12-23
授权号 :
CN112650179B
授权日 :
2022-05-27
发明人 :
李莉林国义杨浩林
申请人 :
同济大学
申请人地址 :
上海市杨浦区四平路1239号
代理机构 :
上海伯瑞杰知识产权代理有限公司
代理人 :
孟旭彤
优先权 :
CN202011537045.4
主分类号 :
G05B19/418
IPC分类号 :
G05B19/418  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制;调节
G05B
一般的控制或调节系统;这种系统的功能单元;用于这种系统或单元的监视或测试装置
G05B19/00
程序控制系统
G05B19/02
电的
G05B19/418
全面工厂控制,即集中控制许多机器,例如直接或分布数字控制、柔性制造系统、集成制造系统、计算机集成制造
法律状态
2022-05-27 :
授权
2021-04-30 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G05B 19/418
申请日 : 20201223
2021-04-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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