一种基于波导光栅的PDMS柔性力敏传感器及制备方法
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摘要

本发明公开了一种基于波导光栅的PDMS柔性力敏传感器及制备方法,包括PDMS波导、波导光栅区,根据滤波波长‑光栅参数‑受力的关系实现力敏检测。用丙酮、酒精和去离子水清洗硅片并烘干;在硅片表面涂覆光刻胶并烘干;对硅片进行掩膜光刻和显影,将掩膜版的图形转移至光刻胶膜上;进行硅的干法刻蚀并去除光刻胶膜,得到硅模板;根据柔性需求,配比不同比例的PDMS液和固化液得到混合液,控制PDMS液和固化液配比在5:1~15:1之间;充分搅拌并在真空下完全去除混合液中的空气;将硅模板放在混合液表面,使硅模板的表面与混合液充分浸润,然后将硅模板和混合液一起加热使得混合液充分固化将硅模板揭下,得到PDMS光波导和光栅结构。

基本信息
专利标题 :
一种基于波导光栅的PDMS柔性力敏传感器及制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112540430A
申请号 :
CN202011560465.4
公开(公告)日 :
2021-03-23
申请日 :
2020-12-25
授权号 :
CN112540430B
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
刘启发张琳胡金高娃赵子岳
申请人 :
南京邮电大学
申请人地址 :
江苏省南京市鼓楼区新模范马路66号
代理机构 :
南京纵横知识产权代理有限公司
代理人 :
韩红莉
优先权 :
CN202011560465.4
主分类号 :
G02B6/13
IPC分类号 :
G02B6/13  G02B6/136  G02B6/124  G03F7/16  G02B6/122  G01L1/24  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B6/00
光导;包含光导和其他光学元件的装置的结构零部件
G02B6/10
光波导式的
G02B6/12
集成光路类型
G02B6/13
以制作方法为特征的集成光路
法律状态
2022-05-17 :
授权
2021-04-09 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 6/13
申请日 : 20201225
2021-03-23 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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