一种光学元件加工用材料及其制备方法
授权
摘要
本发明公开一种光学元件加工用材料及其制备方法。本发明包括α‑氰基丙烯酸酯、乙酰柠檬酸三酯、磷酸三(2‑正丁氧乙基)酯、三羟甲基丙烷三(3‑巯基丙酸酯)、纤维素、气相二氧化硅、单宁酸、邻苯二甲酸酐。本发明采用了支链结构以及络合能力的溶剂，溶剂比例高，同时降低α‑氰基丙烯酸酯固化速度及固化应力，所得光学元件加工用材料具有粘度低、PV值小、粘结强度适当的特点，适合光学元件加工的粘结。
基本信息
专利标题 ：
一种光学元件加工用材料及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112680120A
申请号 ：
CN202011625697.3
公开（公告）日 ：
2021-04-20
申请日 ：
2020-12-31
授权号 ：
CN112680120B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
聂秋林
申请人 ：
杭州电子科技大学
申请人地址 ：
浙江省杭州市下沙高教园区2号大街
代理机构 ：
杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
朱亚冠
优先权 ：
CN202011625697.3
主分类号 ：
C09J4/04
IPC分类号 ：
C09J4/04 C09J11/08 C09J11/06 C09J11/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09J
黏合剂；一般非机械方面的黏合方法；其他类目不包括的黏合方法；黏合剂材料的应用
C09J4/00
基于至少具有1个可聚合的碳-碳不饱和键的非高分子有机化合物的黏合剂
C09J4/02
丙烯酰基单体
C09J4/04
腈基丙烯酸酯单体
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2021-05-07 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09J 4/04
申请日 : 20201231
申请日 : 20201231
2021-04-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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