压力平衡装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种压力平衡装置，包括：主路管道，包括第一进气口和第一出气口，第一出气口与反应腔连通；废气管道，包括第二进气口和第二出气口；至少一个反应气体管道，每个反应气体管道包括第三进气口和第三出气口，第三出气口分别与第一支路和第二支路连接，第一支路和主路管道连接，第一支路内设置有主路阀，第二支路和废气管道连接，第二支路内设置有旁通阀；压力传感器，设置在主路管道内，用于检测主路管道内的压力；压力控制器，与压力传感器连接，设置在废气管道内，用于控制废气管道内的压力以使得废气管道内的压力与主路管道内的压力始终保持平衡。本实用新型的压力平衡装置能够保持主路管道和废气管道的压力始终平衡。
基本信息
专利标题 ：
压力平衡装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020014400.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-06
授权号 ：
CN211227333U
授权日 ：
2020-08-11
发明人 ：
向洪春陈长荣
申请人 ：
上海思擎企业管理合伙企业（有限合伙）
申请人地址 ：
上海市闵行区紫星路588号2幢14层302室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020014400.9
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455 C23C16/44 C30B25/14
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2020-08-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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