双工位抛光压力平衡装置
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摘要
本实用新型公开了一种双工位抛光压力平衡装置，包括固定机座、升降机座、升降机构、一对压力传感器和一对装夹工装，升降机构安装在固定机座上，升降机座安装在升降机构上，一对压力传感器分别安装在固定机座和升降机座上，一对装夹工装分别安装在一对压力传感器上，一对压力传感器以及升降机构之间通过信号联接。该压力平衡装置具有结构简单可靠、能提高产品质量的优点。
基本信息
专利标题 ：
双工位抛光压力平衡装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022197433.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-29
授权号 ：
CN212553266U
授权日 ：
2021-02-19
发明人 ：
刘小平凌建军郭克文彭革辉
申请人 ：
湖南宇环精密制造有限公司
申请人地址 ：
湖南省长沙市长沙经济技术开发区泉塘街道映霞路4号
代理机构 ：
长沙朕扬知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
厉田
优先权 ：
CN202022197433.4
主分类号 ：
B24B29/02
IPC分类号 ：
B24B29/02 B24B27/00 B24B41/06 B24B49/16 B24B41/00 B24B47/20 B24B51/00
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
B24B29/02
适用于特殊工件的
法律状态
2021-02-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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