多工位柔性抛光主轴装置
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摘要
一种多工位柔性抛光主轴装置,包括上平台和抛光机构,所述抛光机构包括主轴组件、上下柔性组件和左右柔性组件,所述左右柔性组件设于上平台上,所述上下柔性组件设于左右柔性组件上,所述主轴组件设于上下柔性组件上,所述主轴组件包括伺服电机、传动机构、密封机构、磨头柄机构和电机安装座,所述伺服电机通过电机安装座与上下柔性组件连接,所述伺服电机通过传动机构与磨头柄机构连接,所述密封机构套设于传动机构上。本实用新型布局紧凑小巧,灵活度高;抛光头能在上下左右能自动补偿,以实现加工过程中抛光头与每件工件的贴合,解决抛光不均匀、存在扫光死角、产品良率低的问题;能大幅提升生产效率,同时有效的保护抛光头本身。
基本信息
专利标题 :
多工位柔性抛光主轴装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020069878.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-01-13
授权号 :
CN211540741U
授权日 :
2020-09-22
发明人 :
王珲荣戴瑜兴杨佳葳
申请人 :
宇晶机器(长沙)有限公司
申请人地址 :
湖南省长沙市长沙高新开发区文轩路27号麓谷钰园E-2栋101号
代理机构 :
长沙明新专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
徐新
优先权 :
CN202020069878.1
主分类号 :
B24B27/00
IPC分类号 :
B24B27/00 B24B29/00 B24B29/02 B24B41/02 B24B41/04 B24B45/00 B24B47/22
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B27/00
其他磨床或装置
法律状态
2020-09-22 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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