一种电镀溶液主盐浓度的调控装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种电镀溶液主盐浓度的调控装置,其包括电解池、调控箱及控制台,所述电解池用于盛放电解液,所述调控箱用于盛放酸碱剂,所述控制台、调控箱均安装于所述电解池的外侧壁上,所述调控箱上设置有电磁阀,所述控制台上设置有控制按钮,所述电磁阀与所述控制按钮电连接,以通过所述控制按钮控制所述电磁阀的开启或关闭,使所述酸碱剂从所述调控箱流入所述电解池,从而使酸碱剂从所述调控箱流入所述电解池,调整电解池内电镀溶液的主盐浓度,使用方便,操作简单,进而提高调控溶液主盐浓度的工作效率。
基本信息
专利标题 :
一种电镀溶液主盐浓度的调控装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020059729.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-01-11
授权号 :
CN211872140U
授权日 :
2020-11-06
发明人 :
涂清平赖玉梅
申请人 :
深圳科瑞晟环保科技有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市龙岗区龙岗街道龙岗社区杨梅岗金峰路28号顺富科技园A栋301
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202020059729.7
主分类号 :
C25D21/14
IPC分类号 :
C25D21/14
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D21/00
电解镀覆用电解槽的维护或操作方法
C25D21/12
工艺控制或调节
C25D21/14
电解液组分的控制添加
法律状态
2020-11-06 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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