一种用于高真空度封堵的装置
专利权的终止
摘要
本实用新型涉及一种用于高真空度封堵的装置,属于真空封堵领域。包括密封盖,所述密封盖中心设有通道,所述通道中设有可移动的真空抽气活塞杆,所述密封盖一侧连接有真空过渡法兰;定位盘,设置在所述密封盖与所述真空过渡法兰之间,所述定位盘两侧与所述密封盖与所述真空过渡法兰之间均设有第二密封圈;导向套,设置在所述通道和真空抽气活塞杆之间,所述导向套与所述真空抽气活塞杆之间设有第一密封圈。
基本信息
专利标题 :
一种用于高真空度封堵的装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020082565.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-01-15
授权号 :
CN211574252U
授权日 :
2020-09-25
发明人 :
滕秀荣连瑞梅滕信涛王兆鑫
申请人 :
潍坊英盛电子科技有限公司
申请人地址 :
山东省潍坊市潍城区望留镇政府驻地
代理机构 :
济南圣达知识产权代理有限公司
代理人 :
孟雪
优先权 :
CN202020082565.X
主分类号 :
F16J15/16
IPC分类号 :
F16J15/16 F16J15/06 B65D81/20
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F16
工程元件或部件;为产生和保持机器或设备的有效运行的一般措施;一般绝热
F16J
活塞;缸;一般压力容器;密封
F16J
活塞;缸;一般压力容器;密封
F16J15/00
密封
F16J15/16
在相对运动的表面之间
法律状态
2021-12-24 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : F16J 15/16
申请日 : 20200115
授权公告日 : 20200925
终止日期 : 20210115
申请日 : 20200115
授权公告日 : 20200925
终止日期 : 20210115
2020-09-25 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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