一种测量真空度的装置
授权
摘要
本申请公开了一种测量真空度的装置，所述装置包括：电源、电流计、电极、半导体薄膜材料和衬底；所述电源的正负极通过导线连接所述电极；在所述电源与所述电极之间安装有所述电流计；所述电极连接所述半导体薄膜材料；所述半导体薄膜材料沉积在所述衬底上。本申请的装置通过电源提供的电压与电流计测量得到的电流可以获得半导体薄膜材料的电阻，本申请的测量真空度的装置中的半导体薄膜材料的电阻与该装置所处的真空度呈现准线性关系，从而可以通过测量半导体薄膜材料的电阻而测量较大范围的真空度，以解决现有技术中的同一种测量装置无法同时测量高真空度与低真空度的缺陷。
基本信息
专利标题 ：
一种测量真空度的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920761385.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-24
授权号 ：
CN209992108U
授权日 ：
2020-01-24
发明人 ：
王广才
申请人 ：
南开大学
申请人地址 ：
天津市南开区卫津路94号
代理机构 ：
北京清源汇知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
窦晓慧
优先权 ：
CN201920761385.1
主分类号 ：
G01L21/00
IPC分类号 ：
G01L21/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01L
测量力、应力、转矩、功、机械功率、机械效率或流体压力
G01L21/00
真空计
法律状态
2020-01-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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