一种环形光斑的光学系统
授权
摘要

本实用新型属于激光加工领域,公开了一种环形光斑的光学系统,包括依次沿光路设置的准直单元、相位调制单元和聚焦单元,相位调制单元包括位于光路内的至少一个螺旋相位板;激光束经位于光路内的螺旋相位板能够被附加上螺旋相位因子实现相位调制,使激光束的能量分布变为环形分布。进一步的,可以将螺旋相位板设置在旋转轴上,通过绕旋转轴旋转切换位于光路内与位于光路外的状态,如此通过切换各个螺旋相位板能够实现可变环形光斑。本实用新型通过对光学系统的组件及各个组件之间的配合作用方式等进行改进,能够获得能量分布集中在边缘,直径更大,焦深更长的环形光斑,进一步的光斑的大小可调,适用于激光切割等多种激光加工领域。

基本信息
专利标题 :
一种环形光斑的光学系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020091614.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-01-16
授权号 :
CN211956009U
授权日 :
2020-11-17
发明人 :
秦应雄葛佳琪昌思怡张怀智唐霞辉
申请人 :
华中科技大学
申请人地址 :
湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
代理机构 :
华中科技大学专利中心
代理人 :
许恒恒
优先权 :
CN202020091614.6
主分类号 :
G02B27/09
IPC分类号 :
G02B27/09  B23K26/06  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/09
其他位置不包括的光束整形,例如改变横截面积
法律状态
2020-11-17 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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