分解炉可控硅保护装置
授权
摘要

本实用新型公开了分解炉可控硅保护装置,包括保护外壳,所述保护外壳的两侧外壁均开设有安装口,且其中一个安装口的内壁通过螺栓固定有风扇,另一个所述安装口的内壁通过螺栓固定有过滤网,所述保护外壳底部内壁通过螺栓固定有散热器,所述散热器顶部外壁的两侧均开设有安装槽,且两个安装槽的内壁均通过螺栓固定有可控硅,所述保护外壳的两侧内壁均开设有矩形槽,且两个矩形槽的两侧内壁均通过螺栓固定有滑轨。本实用新型通过在将可控硅安装在保护外壳内的散热器上,通过散热器和保护外壳上的风扇对可控硅进行散热保护,又通过保护外壳上的滑动板和驱动机构之间的配合,进一步帮助可控硅进行散热。

基本信息
专利标题 :
分解炉可控硅保护装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020095630.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-01-16
授权号 :
CN211552499U
授权日 :
2020-09-22
发明人 :
方萍义
申请人 :
惠州韧达纳米科技有限公司
申请人地址 :
广东省惠州市惠城区马安镇新群村(群乐路)三楼
代理机构 :
深圳市鼎智专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
曹勇
优先权 :
CN202020095630.2
主分类号 :
F27D19/00
IPC分类号 :
F27D19/00  H01L21/67  
相关图片
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F27
炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉
F27D
一种以上的炉通用的炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉的零部件或附件
F27D
一种以上的炉通用的炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉的零部件或附件
F27D19/00
控制装置的配置
法律状态
2020-09-22 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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