一种真空炉的密封结构
授权
摘要
本实用新型涉及真空炉技术领域，公开了一种真空炉的密封结构，其包括炉体和固定连接在炉体上的炉盖，炉体的外侧固定连接有支撑件，炉盖包括外盖和内盖，外盖和内盖呈凸起状，内盖和外盖朝向远离炉体的方向凸起，内盖靠近炉体的一侧固定连接有密封件，炉体的开口周缘开设有供密封件嵌入的密封槽，密封件设有多个，密封槽对应的也设置有多个，外盖的侧边固定连接有固定炉盖的紧固件，密封件的内部包裹有膨胀体。本实用新型具有提高真空炉密封性的效果。
基本信息
专利标题 ：
一种真空炉的密封结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020117586.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-18
授权号 ：
CN211778963U
授权日 ：
2020-10-27
发明人 ：
夏磊
申请人 ：
上海耐恩贸易有限公司
申请人地址 ：
上海市松江区洞泾镇洞薛路518号1幢D座
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020117586.0
主分类号 ：
F16J15/12
IPC分类号 ：
F16J15/12 F16J15/46 F16J13/02
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F16
工程元件或部件；为产生和保持机器或设备的有效运行的一般措施；一般绝热
F16J
活塞；缸；一般压力容器；密封
F16J
活塞；缸；一般压力容器；密封
F16J15/00
密封
F16J15/02
在相对固定的面之间
F16J15/06
带有压紧在密封面之间的固体填料
F16J15/10
带有非金属填料
F16J15/12
带有金属加强件或蒙皮
法律状态
2020-10-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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