用于抛光设备的真空储水罐装置
授权
摘要
本实用新型公开的用于抛光设备的真空储水罐装置，包括排气管、压力表、过滤装置、真空吸气管、真空储水罐和排水管；过滤装置分别连接排气管和真空吸气管，过滤装置底部管道连接真空储水罐，真空储水罐另一端连接排水管，排气管与过滤装置之间设有压力表；排气管、真空吸气管、过滤装置与真空储水罐之间的连接管道上分别设有阀门；所述压力表与排气管之间还设有汽液分离装置。所述汽液分离装置包括过滤器和储水杯，过滤器设在排气管与压力管的连接管道上，储水杯设在过滤器下部。本实用新型结构简单、设计合理,使用方便，既具备自我清洗功能，又能通过增加的汽液分离装置有效延长压力表使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
用于抛光设备的真空储水罐装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020117649.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-18
授权号 ：
CN211540771U
授权日 ：
2020-09-22
发明人 ：
杨佳葳王珲荣
申请人 ：
宇晶机器（长沙）有限公司
申请人地址 ：
湖南省长沙市长沙高新开发区文轩路27号麓谷钰园E-2栋101号
代理机构 ：
长沙明新专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
徐新
优先权 ：
CN202020117649.2
主分类号 ：
B24B29/00
IPC分类号 ：
B24B29/00 B24B41/06 F17D1/08 F17D3/01
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
法律状态
2020-09-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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