预润湿设备及预润湿系统
授权
摘要

本实用新型公开了一种预润湿设备及预润湿系统,预润湿设备用于晶圆的预润湿,包括第一箱体,所述第一箱体的内部具有容置腔,所述容置腔用于通入预润湿液体,所述预润湿设备还包括夹持部,所述夹持部设置在所述容置腔的内部,所述夹持部用于卡持所述晶圆的外圆面,以使所述晶圆浸没于所述预润湿液体中。本实用新型利用设置在容置腔内的夹持部卡住晶圆,再向容置腔内充入预润湿液体,从而将晶圆浸没在预润湿液体中,进而使得晶圆的两个侧面都能被预润湿液体浸润。本实用新型的预润湿设备结构简单,一次即可实现晶圆的两个侧面的润湿,有利于提高晶圆的预润湿的预处理的效率。

基本信息
专利标题 :
预润湿设备及预润湿系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020143732.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-01-21
授权号 :
CN211376599U
授权日 :
2020-08-28
发明人 :
史蒂文·贺·汪
申请人 :
新阳硅密(上海)半导体技术有限公司
申请人地址 :
上海市松江区思贤路3600号
代理机构 :
上海弼兴律师事务所
代理人 :
薛琦
优先权 :
CN202020143732.7
主分类号 :
H01L21/67
IPC分类号 :
H01L21/67  H01L21/02  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-08-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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