一种2050nm激光偏振膜
授权
摘要
本实用新型公开了一种2050nm激光偏振膜，该激光偏振膜的膜系结构为：Sub|(HL)^s H|Air，其中，基底材料Sub为CaF2，H代表高折射率膜层材料为Ta2O5，L代表低折射率膜层材料为SiO2，s为周期数。本实用新型主要针对2050nm的激光波长，提供一种在布儒斯特角度(55°)范围内工作的激光偏振膜，达到一定范围内的光透过偏振能量高度分离，可广泛应用于2050nm工作波长各类激光器，探测装置、生化分析、光谱分析、机器视觉以及其它光学系统。
基本信息
专利标题 ：
一种2050nm激光偏振膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020190502.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-20
授权号 ：
CN211263842U
授权日 ：
2020-08-14
发明人 ：
岳威张永久韩永昶张阔刘连泽李金岩
申请人 ：
北京华北莱茵光电技术有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路2号院内11所3号楼4层
代理机构 ：
北京天江律师事务所
代理人 ：
任崇
优先权 ：
CN202020190502.6
主分类号 ：
G02B5/30
IPC分类号 ：
G02B5/30
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/30
偏振元件
法律状态
2020-08-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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