一种用于中性密度滤光片的镀膜装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于中性密度滤光片的镀膜装置，包括电机，所述电机的前端外表面设置有电机支架，所述电机支架的一端外表面设置有镀膜基片，所述电机的前端中部设置有传动轴，所述镀膜基片的两端外表面均设置有镀膜夹具。本实用新型所述的一种用于中性密度滤光片的镀膜装置，采用电机旋转带动摆放在镀膜夹具中的镀膜基片转动，当镀膜材料蒸发时，镀膜材料通过挡片镂空位置沉积在镀膜基片上，挡片锯齿形状可以实现膜层由内向外变薄；由于镀膜基片在电机的带动下，匀速旋转，这样膜层沉积均匀，渐变平滑，从而实现环形由内向外渐变效果，带来更好的使用前景。
基本信息
专利标题 ：
一种用于中性密度滤光片的镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020234450.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-02
授权号 ：
CN211771531U
授权日 ：
2020-10-27
发明人 ：
林新佺
申请人 ：
深圳市激埃特光电有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙岗区龙岗街道宝龙社区锦龙一路八号C栋201
代理机构 ：
北京化育知识产权代理有限公司
代理人 ：
尹均利
优先权 ：
CN202020234450.8
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50 C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2020-10-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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