一种取向硅钢渗氮装置用真空控制结构
授权
摘要
本实用新型提供一种应用于冶金领域的取向硅钢渗氮装置用真空控制结构，所述的取向硅钢渗氮装置用真空控制结构的渗氮装置壳体(1)上设置开口部(2)，开口部(2)内安装导电密封辊(3)和非接触密封辊(4)，所述的导电密封辊(3)和非接触密封辊(4)之间形成取向硅钢处理腔体(5)，导电密封辊(3)与电源(6)连接，本实用新型所述的取向硅钢渗氮装置用真空控制结构，针对取向电工钢在连续生产线渗氮过程中，有效实现取向硅钢在进行渗氮前实现清理和活化，并且确保清理和活化段的真空度，有效达到不同厚度钢带快速离子渗氮，渗氮质量稳定，提高取向硅钢加工效率和加工质量。
基本信息
专利标题 ：
一种取向硅钢渗氮装置用真空控制结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020256647.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-05
授权号 ：
CN212102984U
授权日 ：
2020-12-08
发明人 ：
裴英豪朱涛夏雪兰胡柯杜军陈友根武战军祁旋
申请人 ：
马鞍山钢铁股份有限公司
申请人地址 ：
安徽省马鞍山市雨山区九华西路8号
代理机构 ：
芜湖安汇知识产权代理有限公司
代理人 ：
蒋兵魁
优先权 ：
CN202020256647.1
主分类号 ：
C23C8/02
IPC分类号 ：
C23C8/02 C23C8/38
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C8/00
金属材料表面中仅渗入非金属元素的固渗；材料表面与一种活性气体反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理法，例如转化层、金属的钝化
C23C8/02
被覆材料的预处理
法律状态
2020-12-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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