可实现紧邻基坑交叉实施的支撑结构
授权
摘要
本实用新型属于地下空间开发领域的可实现紧邻基坑交叉实施的支撑结构，技术方案为：在基坑内靠近第一侧壁处设置数对撑，对撑上下左右间隔布置，对撑的两端分别固定在与第一侧壁相交的基坑的第二侧壁和第三侧壁上。在这种情况下，基坑的第一侧壁外可挖除土方。利用该支撑结构实现了在先开挖基坑未施工完成的条件下，提前进行紧邻基坑的开挖施工。
基本信息
专利标题 ：
可实现紧邻基坑交叉实施的支撑结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020264381.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-06
授权号 ：
CN212270948U
授权日 ：
2021-01-01
发明人 ：
翁其平王卫东陈永才胡实轩
申请人 ：
华东建筑设计研究院有限公司
申请人地址 ：
上海市黄浦区汉口路151号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020264381.5
主分类号 ：
E02D17/04
IPC分类号 ：
E02D17/04
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D17/00
挖方；挖方边缘的修砌；填方
E02D17/02
基础坑
E02D17/04
基础坑边缘的修砌或加固
法律状态
2021-01-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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