管用进气排气装置
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摘要

本实用新型涉及一种管用进气排气装置,包括进气管和排气管,所述进气管和排气管分布在炉管内并紧靠炉内壁,所述进气管和排气管以布置在炉管内部的硅片为中心对称分布;所述进气管和排气管均为结构相同的多层套管结构,所述多层套管结构由至少两根气管由内向外同轴心套接构成;在每层气管上开设若干气孔。本实用新型进气管和排气管采用多层套管结构,多层套管结构的内部空间使扩散源气体和反应残留废气可在多层套管结构中充分混合均匀后进入或排出炉管。另一方面各层气管中气孔的位置、角度、孔径、孔距、孔向均调整,从而实现进入炉管的气流方向稳定性和均匀性。

基本信息
专利标题 :
管用进气排气装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020272449.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-03-06
授权号 :
CN211947290U
授权日 :
2020-11-17
发明人 :
张松朱俊陆红艳程晓伟朱凡李志刚
申请人 :
帝尔激光科技(无锡)有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市锡山经济技术开发区凤威路2号
代理机构 :
无锡华源专利商标事务所(普通合伙)
代理人 :
聂启新
优先权 :
CN202020272449.4
主分类号 :
C30B31/16
IPC分类号 :
C30B31/16  C30B29/06  H01L31/18  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B31/00
单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之扩散或掺杂工艺;其所用装置
C30B31/06
同气态扩散材料接触的
C30B31/16
气体供给或排出的装置;气流的变换
法律状态
2020-11-17 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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