真空箱组件和抽真空装置
授权
摘要
本实用新型提供了一种真空箱组件和抽真空装置，真空箱组件包括：箱体，箱体中设置有腔体，箱体上设置有第一通孔；第一抽气管路，设置于腔体中，与第一通孔相连通，第一抽气管路为闭合的管路，第一抽气管路上设置有多个抽气孔，多个抽气孔均匀分布在第一抽气管路的一个表面上。通过在第一抽气管路的一个表面上均匀设置多个抽气孔，使第一抽气管路在抽气腔体内的空气时，在腔体中形成均匀的气流，防止腔体内出现复杂且混乱的气流形态，从而保证该真空箱组件在制备镀膜等高精度工件时，可以借助均匀的气流提升镀膜厚度的均匀性和高精度工件的精准性，尤其在制备镀膜时，可以有效避免因紊乱的气流所产生的镀膜厚度不均匀的问题。
基本信息
专利标题 ：
真空箱组件和抽真空装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020335908.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-17
授权号 ：
CN211897110U
授权日 ：
2020-11-10
发明人 ：
梁建军朱海剑
申请人 ：
常州捷佳创精密机械有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市新北区机电工业园宝塔山路9号
代理机构 ：
北京友联知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
汪海屏
优先权 ：
CN202020335908.9
主分类号 ：
C23C16/54
IPC分类号 ：
C23C16/54 C23C16/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/54
连续镀覆的专用设备
法律状态
2020-11-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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