一种以电路板蚀刻废液为原料连续生产电镀级氧化铜的系统
授权
摘要
本实用新型提供了一种以电路板蚀刻废液为原料连续生产电镀级氧化铜的系统，旨在提供一种流程简单，能耗低且能连续生产氧化铜的系统；包括废液储蓄池和氧化剂储蓄罐，废液储蓄池、氧化剂储蓄罐分别管道与管式反应器、离心机连通连通，管式反应器通过管道与强碱储蓄罐连通，离心机的固体出料口与固体收集罐连通，离心机的液体出料口与强碱储蓄罐管道连通形成循坏。
基本信息
专利标题 ：
一种以电路板蚀刻废液为原料连续生产电镀级氧化铜的系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020370103.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-23
授权号 ：
CN211896069U
授权日 ：
2020-11-10
发明人 ：
陈钰桐方岩雄陈佳湜郑育英侯延辉蔡晓兰
申请人 ：
广东工业大学
申请人地址 ：
广东省广州市东风东路729号
代理机构 ：
广州市科丰知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王海曼
优先权 ：
CN202020370103.8
主分类号 ：
C01G3/02
IPC分类号 ：
C01G3/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C01
无机化学
C01G
含有不包含在C01D或C01F小类中之金属的化合物
C01G3/00
铜的化合物
C01G3/02
氧化物；氢氧化物
法律状态
2020-11-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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