一种副反射面旋转的低剖面可扫描平面反射阵天线系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种副反射面旋转的低剖面可扫描平面反射阵天线系统，包括平面反射阵天线模块(12)、副反射面(9)、馈源(8)和电机系统，平面反射阵天线模块(12)与电机系统连接，电机系统与副反射面(9)连接，馈源(8)安装在平面反射阵天线模块(12)的正中心，副反射面(9)位于馈源(8)正上方，平面反射阵天线模块(12)包括从上到下依次连接的天线层(5)、控制层(6)和电源层(7)，馈源(8)发出电磁波给副反射面(9)，电机系统控制副反射面(9)的旋转，该系统能够实现离轴角±α，旋转角360°的波束扫描，该系统具有更低的剖面、更高的增益，占用空间小，且系统高度集成化。
基本信息
专利标题 ：
一种副反射面旋转的低剖面可扫描平面反射阵天线系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020375749.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-23
授权号 ：
CN211182508U
授权日 ：
2020-08-04
发明人 ：
汪渊谢照川李伟尹治强李超邓方科
申请人 ：
成都华芯天微科技有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市中国（四川）自由贸易试验区成都高新区天府五街200号1号楼3层A、B区
代理机构 ：
成都华风专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
张巨箭
优先权 ：
CN202020375749.5
主分类号 ：
H01Q1/28
IPC分类号 ：
H01Q1/28 H01Q1/38 H01Q1/48 H01Q1/50 H01Q3/20 H01Q13/02 H01Q15/14 H01Q19/185
法律状态
2020-08-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
