一种地铁隧道优化结构
授权
摘要
本实用新型涉及隧道结构技术领域，更具体而言，涉及一种地铁隧道优化结构。包括轨道、隧道结构、降震区、找平区、下平板、隔离区、稳固区、抗浮杆和底填区，轨道的底端设置有隧道结构，且轨道的底端设置有降震区，该降震区的底端设置有找平区；找平区的下端设置有下平板，且下平板的底端设置有隔离区，该隔离区的底端设置有稳固区；稳固区的底端一侧设置有抗浮杆，且抗浮杆的底端外围设置有底填区。本实用新型找平区，稳固区和隔离区的设置，通过三角形结构形成稳定的受力层，提高结构整体的受力效果，为使用者带来衔接度高、受力性好的优化结构，通过封堵与防护实现双重防渗透做工，提高使用安全性能。本实用新型主要应用在隧道建设方面。
基本信息
专利标题 ：
一种地铁隧道优化结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020387650.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-24
授权号 ：
CN211924172U
授权日 ：
2020-11-13
发明人 ：
李宏飞耿亚军刘洋
申请人 ：
中铁十二局集团第二工程有限公司;中铁十二局集团有限公司
申请人地址 ：
山西省太原市小店区人民南路19号
代理机构 ：
北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
申绍中
优先权 ：
CN202020387650.7
主分类号 ：
E21D9/14
IPC分类号 ：
E21D9/14 E21D11/38
相关图片
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E21
土层或岩石的钻进；采矿
E21D
竖井；隧道；平硐；地下室
E21D9/00
衬砌或不衬砌的隧道或平硐；其掘进的方法或设备；隧道、平硐的设计布置
E21D9/14
隧道或平硐的设计布置；其他类目不包括的隧道或平硐的结构特征，例如，洞口、隧道口的日光减弱
法律状态
2020-11-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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