一种下沉式染片架
授权
摘要
本实用新型涉及染片架技术领域，且公开了一种下沉式染片架，包括前后两个对称分布的遮挡板和底架，所述底架为多个水平分布的长柱体组成，两个所述遮挡板分别与所述底架的上表面焊接固定，且两个所述遮挡板的同一侧和同另一侧均焊接固定有搭手，所述底架的上表面前后两侧均焊接固定有多个隔断；在使用的过程中，通过两个搭手可以将该染片架固定在水槽中，在染色的时候，染液不容易喷洒到台面上，并且在冲洗的时候，不需要将玻片一个一个分别夹起来将染液或水倾倒掉，提高了染色的的效率。
基本信息
专利标题 ：
一种下沉式染片架
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020395696.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-25
授权号 ：
CN212159292U
授权日 ：
2020-12-15
发明人 ：
邓莉宋丹周显元张弛李阿丽黄颖凤
申请人 ：
深圳大学总医院
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区西丽大学城学苑大道1098号
代理机构 ：
北京汇众通达知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李志男
优先权 ：
CN202020395696.3
主分类号 ：
G01N1/31
IPC分类号 ：
G01N1/31
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N1/00
取样；制备测试用的样品
G01N1/28
测试用样品的制备
G01N1/30
着色；浸渍
G01N1/31
其所用设备
法律状态
2020-12-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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