激光投影设备及其散热系统

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摘要

本实用新型公开了一种激光投影设备及其散热系统，散热系统包括：涡流管，所述涡流管具有低温气体出口和高温气体出口；密封的器件腔体，所述器件腔体的气体进口与所述涡流管的低温气体出口连通；气体换热腔体，所述气体换热腔体的气体进口与所述器件腔体的气体出口和所述涡流管的高温气体出口连通，所述气体换热腔体的气体出口与所述涡流管的气体进口连通；设置于所述气体换热腔体的腔壁上的热电制冷器，所述热电制冷器的冷面朝向所述气体换热腔体内部且所述热电制冷器的热面朝向所述气体换热腔体外部。该散热系统可以降低光学器件的工作温度，使设备结构更加紧凑，防止外部的污染，提升散热效果。

基本信息

专利标题：

激光投影设备及其散热系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020418624.6

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-03-27

授权号：

CN211348972U

授权日：

2020-08-25

发明人：

高文宏曹磊张志明

申请人：

北京镭创高科光电科技有限公司

申请人地址：

北京市北京经济技术开发区凉水河二街大族企业湾19号楼B座5层502室

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

赵焕

优先权：

CN202020418624.6

主分类号：

G03B21/16

IPC分类号：

G03B21/16