折返式补锂设备
授权
摘要
本实用新型涉及一种折返式补锂设备，包括补锂腔室及设于其内的放卷装置、收卷装置、导向轮组、至少两个靶材安装机构组及基片加热机构；导向轮组包括第一、第二导向轮，第一导向轮用于导向且使基片上第一侧表面的第一区域和第二区域相对设置，第二导向轮用于导向且使基片上第二侧表面的第三区域和第四区域相对设置；各组内的靶材安装机构的数量均为多个且沿基片的传输方向设置；其中有两个靶材安装机构组分别设于基片的第一区域和第二区域之间的位置、第三区域和第四区域之间的位置；基片加热机构包括加热安装机构及设于其上的加热片，加热安装机构设于各组内的相邻两个靶材安装机构之间，加热片用于对基片加热。
基本信息
专利标题 ：
折返式补锂设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020432869.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-30
授权号 ：
CN212247199U
授权日 ：
2020-12-29
发明人 ：
谭志张艳芳虞文韬
申请人 ：
维达力实业（深圳）有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙岗区坂田街道雅园路3号3楼、4楼、5楼、6楼的1、2、3、4层
代理机构 ：
广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
李睿
优先权 ：
CN202020432869.4
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/34 H01M4/1391 H01M4/1395 H01M4/04 H01M10/0525
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2020-12-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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