一种流体控温式的化学机械抛光平台
授权
摘要
本实用新型公开了一种流体控温式的化学机械抛光平台，包括：具有中空腔的抛光盘、具有流体通道的旋转轴、圆筒底座、进液管和流体恒温反应器；所述抛光盘中心底部设置有连接座，所述连接座与所述旋转轴顶部紧密连接，所述连接座内开设有连接所述中空腔和所述流体通道的连接腔，所述旋转轴通过防水轴承设置在所述圆筒底座上，所述进液管的一端依次穿过所述圆筒底座、所述流体通道和所述连接腔，并位于所述中空腔内；所述圆筒底座还开设有与所述流体通道连通的流体出口；所述流体出口和所述进液管远离所述抛光盘的一端分别与所述流体恒温反应器连接。本实用新型技术方案旨在实现精准控制抛光温度的目的。
基本信息
专利标题 ：
一种流体控温式的化学机械抛光平台
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020439161.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-30
授权号 ：
CN211805514U
授权日 ：
2020-10-30
发明人 ：
王家雄
申请人 ：
昂士特科技（深圳）有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区桃源街道长源社区学苑大道1001号南山智园C3栋201
代理机构 ：
深圳市中科创为专利代理有限公司
代理人 ：
谭雪婷
优先权 ：
CN202020439161.1
主分类号 ：
B24B37/11
IPC分类号 ：
B24B37/11 B24B37/34 B24B55/03
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置；附件
B24B37/11
研具
法律状态
2020-10-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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