一种用于腐蚀箔生产的新型反应槽
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种用于腐蚀箔生产的新型反应槽,包括装置本体、转轴和温度传感器,所述装置本体的外壁设置有保温棉层,所述装置本体的一侧设置有动力机构,且动力机构内部的顶端安装有电机,所述电机的底端设置有转轴,所述装置本体的两侧内壁之间设置有支撑杆,所述支撑杆底端的两侧均安装有加热块,所述空腔内部顶端的两侧均安装有温度传感器,所述空腔内部的底端安装有第二搅拌轴,且第二搅拌轴上方的外壁均匀设置有第二搅拌叶。本实用新型通过在空腔内部的底端安装有第二搅拌轴,且第二搅拌轴上方的外壁均匀设置有第二搅拌叶,通过第二搅拌叶对反应液进行搅拌,避免沉淀,从而使箔腐蚀更加均匀。
基本信息
专利标题 :
一种用于腐蚀箔生产的新型反应槽
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020446190.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-03-31
授权号 :
CN211947282U
授权日 :
2020-11-17
发明人 :
郭鑫鑫
申请人 :
河南华荣电子材料有限公司
申请人地址 :
河南省商丘市永城市产业集聚区光明路南科源大道东(经营地址:永城市酇阳创业园)
代理机构 :
郑州科硕专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
侯立曼
优先权 :
CN202020446190.0
主分类号 :
C25F3/04
IPC分类号 :
C25F3/04 C25F7/00
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25F
电解法除去物体上材料的方法;其所用的设备
C25F3/00
电解浸蚀或抛光
C25F3/02
浸蚀
C25F3/04
轻金属的
法律状态
2022-03-11 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C25F 3/04
申请日 : 20200331
授权公告日 : 20201117
终止日期 : 20210331
申请日 : 20200331
授权公告日 : 20201117
终止日期 : 20210331
2020-11-17 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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