一种适用于手机充电口离子氮化的工件架
授权
摘要
本实用新型属于金属离子氮化加工技术领域，具体涉及一种适用于手机充电口离子氮化的工件架。所述适用于手机充电口离子氮化的工件架，由若干层多孔隔板、若干隔离立管及一中心立管组成；隔离立管和中心立管穿设于多孔隔板，多孔隔板由隔离立管和中心立管进行固定支撑；隔离立管和中心立管上无规则分布有多孔。本实用新型可以保证氮化时手机充电品零件硬度的均匀性；其形状便于离子氮化炉的安放，装载量大；并且结构简单。
基本信息
专利标题 ：
一种适用于手机充电口离子氮化的工件架
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020523824.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-11
授权号 ：
CN212102985U
授权日 ：
2020-12-08
发明人 ：
林育周
申请人 ：
深圳市正和德昌科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙岗区坪地街道佳兴路2号
代理机构 ：
广东众行知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
林少波
优先权 ：
CN202020523824.8
主分类号 ：
C23C8/36
IPC分类号 ：
C23C8/36
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C8/00
金属材料表面中仅渗入非金属元素的固渗；材料表面与一种活性气体反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理法，例如转化层、金属的钝化
C23C8/06
使用气体的
C23C8/36
使用电离气体的，例如离子氮化
法律状态
2020-12-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
