一种离子氮化炉
授权
摘要
本实用新型涉氮化炉技术领域，具体涉及一种离子氮化炉，包括炉体和炉底盘，所述炉底盘上设有阴极支座，所述阴极支座包括阴极引电柱、阴极盘和防辉盘，所述阴极引电柱穿过所述炉底盘的中心处与所述阴极盘电连接，所述防辉盘设置在所述阴极盘的下端，且所述防辉盘通过多根支撑座固定于所述炉底盘上，所述防辉盘中设有电磁线圈，所述电磁线圈电连接有交流电路，所述炉体内壁沿周向均匀分布有若干电加热器且所述电加热器与所述炉体之间留有防辉间隙；本实用新型通过电磁加热和电加热双重方式进行加热，提高温度升高速度，使得离子氮化炉适用于大体积工件的加工。
基本信息
专利标题 ：
一种离子氮化炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022403154.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-26
授权号 ：
CN213327794U
授权日 ：
2021-06-01
发明人 ：
史琰峰
申请人 ：
娄底市明人机械有限公司
申请人地址 ：
湖南省娄底市经济开发区太和工业园群乐街
代理机构 ：
重庆百润洪知识产权代理有限公司
代理人 ：
刘子钰
优先权 ：
CN202022403154.9
主分类号 ：
C23C8/36
IPC分类号 ：
C23C8/36
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C8/00
金属材料表面中仅渗入非金属元素的固渗；材料表面与一种活性气体反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理法，例如转化层、金属的钝化
C23C8/06
使用气体的
C23C8/36
使用电离气体的，例如离子氮化
法律状态
2021-06-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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