一种新型高频脉冲离子氮化炉
授权
摘要
本申请公开了一种新型高频脉冲离子氮化炉，包括底座，底座上安装有氮化罐，氮化罐内设有氮化处理腔，氮化罐上端安装有密封氮化处理腔的密封盖板，氮化罐的一侧设有蓄电池，氮化罐包括绝缘外壳和导电内壁，蓄电池上设有与导电内壁电连接的正极导电杆，氮化罐内底部安装有绝缘座，绝缘座上安装有承载架，蓄电池上设有与承载架电连接的负极导电杆，氮化罐的一侧设有氨气罐，氨气罐上设有与氮化处理腔连通的氨气传输管，氨气罐的一侧设有泵体，氮化罐上设有检测氮化处理腔内压力的压力表。本实用新型有效提高了离子氮化炉氮化处理的效率和质量。
基本信息
专利标题 ：
一种新型高频脉冲离子氮化炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922326025.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-23
授权号 ：
CN211522300U
授权日 ：
2020-09-18
发明人 ：
陈首部蓝加平郭军强孙奉娄
申请人 ：
武汉丰而顺热处理设备有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市江岸区谌家矶朱家河村特1号工业园A区1栋
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201922326025.1
主分类号 ：
C23C8/36
IPC分类号 ：
C23C8/36
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C8/00
金属材料表面中仅渗入非金属元素的固渗；材料表面与一种活性气体反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理法，例如转化层、金属的钝化
C23C8/06
使用气体的
C23C8/36
使用电离气体的，例如离子氮化
法律状态
2020-09-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
