一种离子氮化局部屏蔽防渗装置
授权
摘要
本实用新型涉及离子氮化技术领域，具体为一种离子氮化局部屏蔽防渗装置，包括屏蔽套及与所述屏蔽套活动连接的待氮化工件，所述屏蔽套为一端具有开口的中空腔室，所述待氮化工件包括氮化部和非氮化部，所述屏蔽套活动连接在所述非氮化部上。本实用新型的离子氮化局部屏蔽防渗装置，通过设置的屏蔽套，可有效避免非氮化部被离子氮化处理，实现局部氮化的目的，从而避免了非氮化部被离子氮化处理后出现的烧融、脆性变高而造成断裂的风险。
基本信息
专利标题 ：
一种离子氮化局部屏蔽防渗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921649338.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-29
授权号 ：
CN211170837U
授权日 ：
2020-08-04
发明人 ：
李小鹏
申请人 ：
无锡连枝横科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市惠山区智慧路33号华清创意园52栋三楼(经营场所:无锡市惠山区长安街道堰新东路18一楼)
代理机构 ：
无锡市朗高知识产权代理有限公司
代理人 ：
赵华
优先权 ：
CN201921649338.4
主分类号 ：
C23C8/36
IPC分类号 ：
C23C8/36 C23C8/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C8/00
金属材料表面中仅渗入非金属元素的固渗；材料表面与一种活性气体反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理法，例如转化层、金属的钝化
C23C8/06
使用气体的
C23C8/36
使用电离气体的，例如离子氮化
法律状态
2020-08-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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