本实用新型公开了一种处理单体化合物用的研磨装置，包括底板，所述底板的上端中间位置固定安装有主体箱，靠近所述主体箱一侧的底板上固定安装有二号垫块，靠近所述主体箱另一侧的底板上固定安装有一号垫块，所述二号垫块上固定安装有二号气缸，所述一号垫块上固定安装有一号气缸，所述二号气缸的一侧设置有二号伸缩杆。本实用新型所述的一种处理单体化合物用的研磨装置，能够对研磨板进行向上翻折，便于加料和对残渣的清理，能够使得研磨板与研磨漏板在二号伸缩杆与一号伸缩杆的带动下相互运动带来研磨效果，相比传统的旋转式研磨更加便于研磨后研磨料的下落，往复运动更加稳定，使得研磨更加充分，提高研磨工作效率，带来更好的使用前景。