本实用新型涉及陶瓷施釉设备技术领域，尤其涉及一种施釉工作间。包括内部为空腔的壳体，壳体的底部设置有由电机驱动的转盘，电机电性连接到控制器和控制踏板，通过脚踩控制踏板可以控制转盘旋转，放在转盘上的泥坯可以得到均匀的施釉加工；壳体由上、下、左、右四个盖板组成，下盖板设置有回流孔，飘散的雾状釉料会吸附在盖板上，之后在重力的作用下从回流孔被收集在回收箱中；工作间在靠近工人操作位的一端设置有通过弹性铰接装置与左盖板或右盖板相连接的门，在无外力作用的情况下门能保持与左盖板或右盖板垂直，从而在不影响装卸泥坯的情况下减小了工作间内部与外界连通的面积。本实用新型所述施釉工作间施釉均匀，节约原料。