一种基坑加固支撑结构
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摘要

本实用新型涉及一种基坑加固支撑结构,包括基坑,基坑的四周侧壁以及底部均设置有混凝土基层,混凝土基层内侧基坑的左右两端均设置有立柱,立柱的顶部设置有冠梁,冠梁的两端分别通过第一连接螺栓和第二连接螺栓与混凝土基层和立柱相连接设置,立柱的底部设置有第一凸起,第一凸起嵌设入第一凹槽内,立柱上靠近顶部和底部的位置上均连接设置有第一支撑结构,立柱上的中间位置连接设置有第二支撑结构。本实用新型一种基坑加固支撑结构,通过第一支撑结构的设置,使得整体的可拆卸性和灵活性较好;通过第二支撑结构的设置,使得整体具备缓冲减震的功能。

基本信息
专利标题 :
一种基坑加固支撑结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020602711.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-21
授权号 :
CN212223918U
授权日 :
2020-12-25
发明人 :
高顺昌
申请人 :
天津申佳岩土工程有限公司
申请人地址 :
天津市东丽区新立街四合财富广场A座406室
代理机构 :
天津市尚仪知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
王山
优先权 :
CN202020602711.7
主分类号 :
E02D17/20
IPC分类号 :
E02D17/20  
相关图片
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程;基础;疏浚
E02D
基础;挖方;填方;地下或水下结构物
E02D17/00
挖方;挖方边缘的修砌;填方
E02D17/20
边坡或斜坡的稳定
法律状态
2020-12-25 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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