一种半导体元件外壳生产用热熔装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种半导体元件外壳生产用热熔装置,包括底座,所述底座内腔的正面固定连接有安装板,所述安装板的背面固定连接有第一气缸,所述第一气缸的背面固定连接有推板,所述推板的顶部固定连接有支撑柱,所述支撑柱的顶部贯穿至底座的顶部并固定连接有放置板。本实用新型通过设置底座、安装板、第一气缸、推板、支撑柱、放置板、支撑板、第二气缸、压板、热熔盘、滑套、滑轮、滑槽、滑块和滑杆的相互配合,达到了安全性能高的优点,解决了现有的热熔装置安全性能低的问题,当人们在使用热熔装置时,便于将完成后的产品进行取出,且在取出时不会触碰到热熔板,不会对人们造成伤害,方便人们使用。

基本信息
专利标题 :
一种半导体元件外壳生产用热熔装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020621782.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-22
授权号 :
CN212097595U
授权日 :
2020-12-08
发明人 :
李建立
申请人 :
无锡珂特芯科技有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市新吴区东安路深港都会广场9-523
代理机构 :
北京成实知识产权代理有限公司
代理人 :
叶立涛
优先权 :
CN202020621782.1
主分类号 :
B29C65/20
IPC分类号 :
B29C65/20  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B29
塑料的加工;一般处于塑性状态物质的加工
B29C
塑料的成型连接;塑性状态材或料的成型,不包含在其他类目中的;已成型产品的后处理,例如修整
B29C65/00
预制部件的接合;所用的设备
B29C65/02
用有压力或无压力的加热
B29C65/18
使用加热的工具
B29C65/20
有直接接触的,如使用“反射镜”
法律状态
2020-12-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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