荧光法顶空残氧分析仪
授权
摘要

本实用新型属于检测设备技术领域,尤其为荧光法顶空残氧分析仪,包括机壳和主机,所述主机位于所述机壳的内侧,所述机壳的一侧壁铰接有翻盖,所述翻盖的一侧壁固定连接有两个呈对称分布的卡块,所述主机的外壁固定连接有两个呈对称分布的滑块;通过机壳和翻盖的设置对主机进行保护,防止检测时外部液体或硬物的碰触,使用时通过转动杆转动支架,使两个支架呈垂直状态,然后通过转动螺杆进入卡孔之中对支架进行限位,提高支架支撑时的稳定性,通过支架抬高主机的整体高度,从而方便于工人检测时对主机的仪表进行观察,且通过对主机的收纳也方便于后期的储存,减少外部灰尘与主机的接触,进一步提高了适用性。

基本信息
专利标题 :
荧光法顶空残氧分析仪
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020669495.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-28
授权号 :
CN211927703U
授权日 :
2020-11-13
发明人 :
盛洪辉孙君缪俊
申请人 :
上海众寻检测技术有限公司
申请人地址 :
上海市松江区新桥镇莘砖公路518号11幢504室-2A
代理机构 :
上海互顺专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
成秋丽
优先权 :
CN202020669495.8
主分类号 :
G01N21/64
IPC分类号 :
G01N21/64  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发,因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
G01N21/63
光学激发的
G01N21/64
荧光;磷光
法律状态
2020-11-13 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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