一种激光法顶空残氧分析仪
授权
摘要

本实用新型涉及分析设备领域,具体公开了一种激光法顶空残氧分析仪,包括分析装置本体;所述分析装置本体的内部安装有气体分析处理机构和气体取样机构;其中气体分析处理机构主要包括激光器、光谱仪、控制器、显示器和电源组件;所述气体取样机构包括取样探头,取样探头通过气样处理管连通气体分析处理机构。本实用新型在气体分析处理机构上设置了气样处理管,并在气样处理管上设置了与其连通的且可拆卸式的气体取样机构,并在气体取样机构上设置了带有气体过滤结构的密封连接件,在保障取样过程中无污染、高密封性的前提下,减少样气对气体分析处理机构的不利影响,延长其使用寿命,且结构简单,部件更换和维修方便,降低成本。

基本信息
专利标题 :
一种激光法顶空残氧分析仪
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020673681.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-28
授权号 :
CN211927685U
授权日 :
2020-11-13
发明人 :
盛洪辉孙君缪俊
申请人 :
上海众寻检测技术有限公司
申请人地址 :
上海市松江区新桥镇莘砖公路518号11幢504室-2A
代理机构 :
上海互顺专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
成秋丽
优先权 :
CN202020673681.9
主分类号 :
G01N21/31
IPC分类号 :
G01N21/31  G01N1/22  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/25
颜色;光谱性质,即比较材料对两个或多个不同波长或波段的光的影响
G01N21/31
测试材料在特定元素或分子的特征波长下的相对效应,例如原子吸收光谱术
法律状态
2020-11-13 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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