本实用新型公开了一种大米抛光工序水分精准控制装置，包括机体、微波雷达水分传感器、加热元件和单片机，所述机体内由上至下分别贯穿设置有测定腔、导料腔和烘干腔，所述烘干腔底部的内壁上螺栓固定有加热元件，所述导料腔的顶部焊接有挡板，且挡板上开设有第一漏孔，所述导料腔的内壁上开设有活动槽，且活动槽内放置有活动板，所述活动板上开设有第二漏孔，所述机体中部的内侧嵌入式安装有第二电机，且第二电机的输出端连接有齿轮，所述机体的外侧螺栓固定有第一电机，所述机体的内部嵌入式安装有单片机。该大米抛光工序水分精准控制装置，可以对大米进行水分在线测定和补充，同时可以方便控制大米定量下料。