局部亮光可变图像光学系统

授权

摘要

本实用新型提供一种局部亮光可变图像光学系统。局部亮光可变图像光学系统，包括：微透镜阵列层；基材层，透明且位于所述微透镜阵列层之下；图文结构，位于所述基材层之下且分布于所述基材层的局部；以及镀层，仅覆盖所述图文结构的表面且用于增强所述图文结构的亮度。本实用新型通过图文结构的局部亮光，可实现仅需要的图像产生立体或可变效果，其他部分为透明，这样在与其他印刷产品结合使用时既不会影响其他图案的表现，又可以在需要的地方增加立体或可变效果的点缀，大大增加了印刷品的美观度和吸引力。

基本信息

专利标题：

局部亮光可变图像光学系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020676961.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-04-28

授权号：

CN212749415U

授权日：

2021-03-19

发明人：

庄孝磊

申请人：

上海天臣微纳米科技股份有限公司

申请人地址：

上海市松江区莘砖公路518号3幢201室

代理机构：

上海弼兴律师事务所

代理人：

薛琦

优先权：

CN202020676961.5

主分类号：

G02B30/27

IPC分类号：

G02B30/27 G02B30/30