一种基坑阳角的处理结构
授权
摘要
本实用新型提供了一种基坑阳角的处理结构。所述结构包括由于基坑外的不利因素导致的支护结构向基坑内凸起而形成的的基坑阳角，在基坑阳角的长边冠梁与短边冠梁之间设有相互平行的第一阳角背拉梁和第二阳角背拉梁，所述第一阳角背拉梁与短边冠梁的连接部位位于短边冠梁远离长边冠梁的端部，且第一阳角背拉梁和第二阳角背拉梁与长边冠梁及短边冠梁之间的夹角相等。本实用新型通过在基坑阳角处设置背拉梁，利用基坑阳角的自平衡，解决了基坑阳角处位移难以限制的问题，避免发生因基坑阳角处位移过大而影响主体结构施工情况，有利于缩减工期，并保证了基坑周边环境的安全，并且该结构受力明确、施工简单、成本较低、可实现快速推广。
基本信息
专利标题 ：
一种基坑阳角的处理结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020686493.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-29
授权号 ：
CN212452662U
授权日 ：
2021-02-02
发明人 ：
胡建伟陈学龙赵旭荣张国银李青炜
申请人 ：
中冶集团武汉勘察研究院有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市青山区冶金大道17号
代理机构 ：
武汉楚天专利事务所
代理人 ：
杨宣仙
优先权 ：
CN202020686493.X
主分类号 ：
E02D17/04
IPC分类号 ：
E02D17/04
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D17/00
挖方；挖方边缘的修砌；填方
E02D17/02
基础坑
E02D17/04
基础坑边缘的修砌或加固
法律状态
2021-02-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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