一种后端深度水处理装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种后端深度水处理装置，包括沉淀罐和竖流式沉淀槽；沉淀罐的进水口和排水口分别位于罐体顶部两侧，竖流式沉淀槽沿竖直方向固定在沉淀罐内部，沉淀罐的进水口与竖流式沉淀槽连通，竖流式沉淀槽内部还与添加捕捉剂的第二加药管连通，竖流式沉淀槽底部设有可升降的底流板，底流板与竖流式沉淀槽的底部边缘形成间隙变化的过流通道。本实用新型能够方便、高效的将经过MBR膜处理后的出水进行深度处理，改善了废水中存在微米级以下的悬浮颗粒的问题，并且通过调节沉淀罐内部的底流通道间隙，控制进水流量大小以适应不同颗粒浓度的废水在竖流式沉淀槽中的聚集反应。
基本信息
专利标题 ：
一种后端深度水处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020688068.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-29
授权号 ：
CN212559594U
授权日 ：
2021-02-19
发明人 ：
周智何迁罗赞粟一峰周南雷继雨
申请人 ：
湖南创清环境技术有限公司
申请人地址 ：
湖南省长沙市长沙高新开发区文轩路27号麓谷钰园F1栋2005-2007室
代理机构 ：
长沙市融智专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
邹剑峰
优先权 ：
CN202020688068.4
主分类号 ：
C02F1/52
IPC分类号 ：
C02F1/52 C02F103/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先）
C02F1/52
悬浮杂质的絮凝或沉淀
法律状态
2021-02-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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