一种用于成像的光学装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于成像的光学装置，包括：半反射透镜、逆反射组件和投影仪，所述逆反射组件与所述半反射透镜倾斜设置，所述投影仪产生的光线照射在所述半反射透镜上，所述投影仪产生的光线经过所述半反射透镜的反射作用或透射作用以及所述逆反射组件的逆反射作用在所述半反射透镜背对所述投影仪的一侧汇聚形成实像。根据本实用新型的用于成像的光学装置，采用投影仪作为显示光源，与现有技术中采用显示屏作为成像光源的成像装置相比，不仅可以通过调整投影仪的光学参数提升光学装置所汇聚成像的亮度，而且可以提升所形成实现的质量，有利于提升实像的清晰度。
基本信息
专利标题 ：
一种用于成像的光学装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020697465.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-29
授权号 ：
CN212181239U
授权日 ：
2020-12-18
发明人 ：
范超韩东成
申请人 ：
安徽省东超科技有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市高新区望江西路5089号中国科学技术大学先进技术研究院嵌入式开发楼204-A5
代理机构 ：
北京景闻知识产权代理有限公司
代理人 ：
贾玉姣
优先权 ：
CN202020697465.8
主分类号 ：
G03B21/28
IPC分类号 ：
G03B21/28 G03B21/14
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03B
摄影、放映或观看用的装置或设备；利用了光波以外其他波的类似技术的装置或设备；以及有关的附件
G03B21/00
放映机或放映式看片机；有关附件
G03B21/14
零部件
G03B21/28
投影光束的反射器
法律状态
2020-12-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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