一种硫磺素T高位槽加料装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种硫磺素T高位槽加料装置，包括竖直由上至下依次设置的高位槽、流量控制槽、液体泵和低位槽；高位槽开设第一进料口和第一出料口；流量控制槽包括内槽体和外壳体，内槽体开设第二进料口和第二出料口，内槽体底部外周凸出形成转动部；外壳体内形成一流量控制通道；流量控制通道具有第三出料口，硫磺素T液体由第二出料口进入流量控制通道、并由第三出料口流出；低位槽开设第四进料口；第三出料口连通至第四进料口，第二进料口连通第一出料口，溢流口通过液体泵与第一进料口连通。本实用新型提供的硫磺素T高位槽加料装置，通过形成流通控制通道，来间接控制由高位槽向低位槽的加料液体流量，操作简便，无需阀门。
基本信息
专利标题 ：
一种硫磺素T高位槽加料装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020707457.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-30
授权号 ：
CN212855667U
授权日 ：
2021-04-02
发明人 ：
崔四明
申请人 ：
湖北迪美科技有限公司
申请人地址 ：
湖北省孝感市应城市长江埠赛孚工业园新区发展二路
代理机构 ：
武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
丁倩
优先权 ：
CN202020707457.7
主分类号 ：
B01J4/00
IPC分类号 ：
B01J4/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01J
化学或物理方法，例如，催化作用或胶体化学；其有关设备
B01J4/00
进料装置；进料或出口控制装置
法律状态
2021-04-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
