用于一维和二维纳米材料的微型单轴应变施加装置
授权
摘要
本专利公开一种用于一维和二维纳米材料的微型单轴应变施加装置,包括:行程升降台,压片,衬底支撑组件,行程升降台固定支架,平板底座。通过旋转行程升降台上的旋钮来控制行程升降台的高度,进而控制压片的高度,然后再搭配两个固定的衬底支撑组件可以对条形弹性衬底形成四点的应力施加方式,进而实现对条形弹性衬底施加单轴应变的效果。其中当样品贴附在衬底上表面时,施加单轴拉伸应力;当样品贴附在衬底下表面时,施加单轴压缩应力。另外行程升降台上标有数字刻度,可以直观地控制和记录压片升降的高度。因此本专利是一个操作简单、形变量均匀可控、应变效果优良的单轴拉伸或单轴压缩应力的施加装置。
基本信息
专利标题 :
用于一维和二维纳米材料的微型单轴应变施加装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020765060.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-05-11
授权号 :
CN212539985U
授权日 :
2021-02-12
发明人 :
孙聊新张健朱莉晴张波陆卫
申请人 :
中国科学院上海技术物理研究所
申请人地址 :
上海市虹口区玉田路500号
代理机构 :
上海沪慧律师事务所
代理人 :
郭英
优先权 :
CN202020765060.3
主分类号 :
G01N3/20
IPC分类号 :
G01N3/20 G01N3/02 G01N3/08
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N3/18
••在高温或低温下进行试验
G01N3/20
施加稳定的弯曲力
法律状态
2021-02-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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