一种硅片多面污染物采集装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种硅片多面污染物采集装置，包括：多向六轴机械手，可进行多方向的移动以及旋转；多向六轴机械手的底部安装有吸取组件，用于吸附硅片以及吸取硅片上表面和下表面上的溶解液；吸取组件的下方设有硅片放置治具，硅片放置治具上设有硅片，硅片放置治具的一侧设有下表面溶解液供应机构，用于将溶解液与硅片下表面接触；吸取组件经由所述多向六轴机械手驱动将硅片在硅片放置治具和下表面溶解液供应机构之间移动，本实用新型通过多向六轴机械手控制吸取组件能够无死角的进行移动，保证吸取组件与硅片处于水平的位置，并且能够在不翻面的情况下将硅片的上表面和下表面的溶解液进行吸取，便于后续的收集分析。
基本信息
专利标题 ：
一种硅片多面污染物采集装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020830975.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-18
授权号 ：
CN212459017U
授权日 ：
2021-02-02
发明人 ：
朴灵绪
申请人 ：
苏州恩腾半导体科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区02栋703室
代理机构 ：
苏州铭浩知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
朱斌兵
优先权 ：
CN202020830975.8
主分类号 ：
G01N1/14
IPC分类号 ：
G01N1/14
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N1/00
取样；制备测试用的样品
G01N1/02
取样装置
G01N1/10
液体或流体的
G01N1/14
抽吸装置，如泵；喷射器
法律状态
2021-02-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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